氦漏孔校準(zhǔn)裝置

本資料針對(duì)DBLS10-5氦氣漏孔校準(zhǔn)裝置的組成、操作以及維護(hù)。本裝置適用于計(jì)量測(cè)試單位開(kāi)展標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)，量值溯源。本系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于操作、維護(hù)，效率高。

關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規(guī)真空計(jì) | 高低真空校準(zhǔn)裝置 | 氦漏孔校準(zhǔn)裝置

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氦漏孔校準(zhǔn)裝置

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本資料針對(duì)DBLS10-5氦氣漏孔校準(zhǔn)裝置的組成、操作以及維護(hù)。本裝置適用于計(jì)量測(cè)試單位開(kāi)展標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)，量值溯源。本系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于操作、維護(hù)，效率高。
1、設(shè)備使用環(huán)境條件：
環(huán)境溫度20±5℃
相對(duì)濕度＜85%RH
電源電壓220V
2、技術(shù)指標(biāo)：
標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)范圍（1×10-4～1×10-10）Pa•m3/s，
不確定度：U=(10～15)%（k=2）；
氦氣（真空模式）最低可檢漏率<5E-12mbar•L/s；
ULTRA模式最大進(jìn)氣口壓力<0.4mbar；
含兩個(gè)燈絲離子源（3年質(zhì)保）的耐用質(zhì)譜系統(tǒng)；
專(zhuān)用校準(zhǔn)軟件可實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)采集、漏率計(jì)算和原始記錄生成；
滿(mǎn)足JJF1833-2020《真空氦標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)規(guī)范》的測(cè)量要求。